삼성전자, ‘시안’에 中 최대 투자규모 ‘반도체 공장’ 착공
삼성, 미국 텍사스주 오스틴 공장에 이어 두 번째 해외 건설
삼성전자가 중국 시안(西安)에 70억달러(약 7조8900억원)을 투자해 차세대 낸드 플래시 메모리 반도체 생산라인 건설을 시작했다. 이번 투자는 삼성의 중국 투자 중 역대 최대 규모이며 1996년 미국 텍사스주 오스틴 공장에 이어 두 번째 해외 건설이다.
삼성전자는 12일 중국정부를 대표한 자오러지(???) 산시성 서기, 한국정부를 대표한 이규형 주중대사와 지식경제부 윤상직 차관?, 삼성전자?권오현 대표이사 등이?참석한 가운데 ‘삼성중국 반도체’ 생산단지 건설을 알리는 기공식 행사를 가졌다.
삼성전자 시안(西安) 공장은 초기 투자금액 23억달러, 총 투자 규모 70억달러로 2014년부터?10나노급 낸드플래시 메모리를 생산할 계획이다.
권오현 삼성전자 부회장은 “세계 PC의 80%, 휴대폰의 50%가 중국 내에서 생산돼 낸드플래시 수요가 몰린다”며 “시안 생산라인 건설은 세계 최대 시장으로 떠오르고 있는 중국 시장에 선제적으로 진출하기 위한 것”이라고 말했다.
시안(西安)은 중국에서 1000년 이상 동안 수도였던 역사 깊은 도시로 중국정부가 추진하는 서부대개발의 과학기술 중심도시로 꼽힌다. 또한 반도체 생산라인 운용에 필요한 산업 용수와 전기 공급이 원활하고 글로벌 IT기업의 생산 중심지 및 연구 거점으로 성장하고 있어, 향후 삼성전자가 글로벌 오퍼레이션을 강화하는데 최적의 장소로 평가 받았다.
김남주 기자 david9303@theasian.asia